Глубоко очищающая маска-пленка Kosmystik Ritual Genetique Peel-off

Плёночная маска Ritual Genetique Peel-off разработана для глубокого очищения пор. Она великолепно подходит жирной, смешанной и чувствительной коже. Продукт тщательно удаляет остатки мейкапа, частички грязи и излишки жира, профилактируя образование чёрных точек. Способствует восстановлению и регенерации кожного покрова, улучшает его цвет и текстуру.

На очищенную кожу лица нанесите достаточное количество маски и равномерно распределите, избегая зоны вокруг глаз. Подождите 10-15 минут, затем плавно снимите маску по направлению от подбородка ко лбу. При необходимости остатки смойте теплой водой. Используйте раз в неделю.

Aqua, Alcohol SD 40 A, Polyvinyl Alcohol, PEG-7 Glyceryl Cocoate, C 12-15 Alkyl Benzoate, Octyl Palmitate, Polysorbate 20, Phenoxyethanol&Caprylyl Glycol&Chlorphenesin, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Triethanolamine,Fragrance, Allantoin, EDTA, CI 47005 Yellow 3.