Очищающая маска для проблемной кожи ACNOX Holy Land Purifying Mask
Описание
Очищающая маска серии ACNOX разработана специально для проблемной и жирной кожи лица. Она содержит салициловую кислоту и оксид цинка, которые выполняют подсушивающее и противовоспалительное действие. Каолин в составе отшелушивает ороговевший слой и абсорбирует избыток себума. Аллантоин ускоряет заживление повреждений и помогает снять раздражение. Маска выравнивает текстуру и цвет кожного покрова, снижает его сальность, сужает поры и борется с прыщами.
Применение
Нанести маску на очищенную кожу лица, смыть губкой через 15-20 минут. Применять 2-3 раза в неделю. Можно использовать для груди и спины.
Состав
ISOPROPYL ALCOHOL, BENTONITE ,WATER (AQUA),PROPYLENE GLYCOL, KAOLIN , GLYCERIN, ZINC OXIDE, GLYCERYL STEARATE, PEG-100 STEARATE, SALICYLIC ACID, ALLANTOIN, HYDROXYPROPYL METHYLCELLULOSE, SODIUM LAURYL SULFATE,DEHYDROACETIC ACID, BENZYL ALCOHOL.
